在合金分析儀的XRF分析法中規模設備，從X光發(fā)射管里放射出來(lái)的高能初級(jí)射線(xiàn)光子會(huì)撞擊樣本元素。這些初級(jí)光子含有足夠的能量可以將zui里層即K層或L層的電子撞擊脫軌責任製。這時(shí)十分落實，原子變成了不穩(wěn)定的離子。由于電子本能會(huì)尋求穩(wěn)定規則製定，外層L層或M層的電子會(huì)進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間製造業。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過(guò)程中，它們會(huì)釋放出能量關規定，我們稱(chēng)之為二次X射線(xiàn)光子發展基礎。而整個(gè)過(guò)程則稱(chēng)為螢光輻射。每種元素的二次射線(xiàn)都各有特征建強保護。而X射線(xiàn)光子螢光輻射產(chǎn)生的能量是由電子轉(zhuǎn)換過(guò)程中內(nèi)層和外層之間的能量差決定的同期。